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溅射靶材
高纯度铜溅射靶材
高纯度铜溅射靶材
高纯度铜溅射靶材
液晶面板,触摸屏,太阳能电池用高纯铜靶材。可对应最大尺寸G10.5靶材。 以进口的高纯铜为原料,加工制成纯度高,晶粒结构均匀的靶材。先进的工艺控制不纯物含量,减少镀膜期间异物粒子的产生从而获得低电阻,质量优的膜质。 提供各种平面溅射设备用靶材以及粘接服务。 主要用途:电极, 布线
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高纯度铝溅射靶材
高纯度铝溅射靶材
高纯度铝溅射靶材
液晶面板,触摸屏,太阳能电池用高纯铝靶材。可对应最大尺寸G10.5靶材。 以高纯铝为原料,通过压延,热处理等一系列加工工艺制成纯度高,晶粒结构均匀的靶材。为使靶材初期放电稳定,对靶材表面进行特殊加工。通过严格控制靶材的气相成分和晶粒度,从而提高靶材从使用初期到末期,膜厚,膜质以及放电稳定。提供各种平面溅射设备用靶材以及粘接服务。 主要用途:电极, 布线
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高纯度钛溅射靶材
高纯度钛溅射靶材
高纯度钛溅射靶材
液晶面板,触摸屏,太阳能电池用高纯钛靶材。可对应最大尺寸G10.5靶材。 特殊热工艺出理,消除内部应力,保证高粘接附着率。为防止异物粒子产生,对靶材非溅射区进行特殊加工以减少逆向膜产生。为使靶材初期放电稳定,对靶材表面进行特殊加工。提供各种平面溅射设备用靶材以及粘接服务。 主要用途:电极材料,阻隔层
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高纯度钼溅射靶材
高纯度钼溅射靶材
高纯度钼溅射靶材
液晶面板,触摸屏,太阳能电池用高纯钼靶材。可对应最大尺寸G10.5靶材。 严格管理原料粉末的纯度以及粒度分布,使靶材的品质稳定;高密度靶材提高放电过程稳定性。严格控制靶材晶粒度各向分布均匀性,保证镀膜过程的稳定性。提供各种平面溅射设备用靶材以及粘结服务。 主要用途:导电保护层,阻隔层
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